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ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成
型，再高温气氛烧结(1600度，通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ITO靶
材作为原材料，通过磁控溅射把ITO靶气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上。ITO薄膜具
有导电性和透光性，厚度一般30纳米--200纳米。